HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，較常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

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HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱原理：

HMDS涂膠烤箱用于光刻工藝中基板疏水化處理， HMDS 涂布的原理，常用的黏附劑是六甲基二硅胺烷（HMDS）。在提升光刻膠的黏附性工藝中，實際上六甲基二硅烷并不是作為粘結劑所產生作用的，而是HMDS 改變了 SiO2 的界面結構，從而使晶圓的性質由親水性表面轉變為疏水性表面。

光刻膠與晶圓表面之間的黏附性問題，除了受到分子鍵合的影響，還受到其他重要因素的影響。如表面的水分就是其中的主要因素，會減少黏附性，從而造成掀膠和側向腐蝕。HMDS 涂布是涂膠前對硅片表面進行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使硅片表面從親水性轉化為疏水性。

HMDS 涂布機采用蒸汽涂布的方式。簡單評價晶圓的表面黏附性好壞，可以將晶圓進行 HMDS 涂布，然后在晶圓的表面滴一滴水珠，然后通過測量水珠的接觸角，來進行晶圓表面黏附性好壞的判斷。接觸角的測量方法如下圖所示，當接觸角角度越大，說明黏附性越好，也就意味著疏水性越強。

HMDS涂布機，HMDS涂膠烤箱技術參數：

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